[发明专利]光刻设备、图案形成装置和光刻方法在审
| 申请号： | 201480058326.8 | 申请日： | 2014-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN105659165A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | P·W·H·德贾格;R·A·J·范德韦尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种曝光设备，包括：衬底保持装置，构造成保持衬底(17)；调制器，包括用于发射电磁辐射的多个VECSEL或VCSEL，配置成用根据期望的图案调制的多个辐射束曝光目标部分的曝光区域；以及投影系统，配置成将经过调制的束(B1、B2、B3)投影到目标部分(A14、A24、A34)上并具有用于接收所述多个辐射束的光学元件阵列，所述投影系统配置成在曝光区域的曝光过程中将光学元件阵列相对于多个VECSEL或VCSEL移动，其中所述移动涉及旋转和/或所述移动使束移位。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 图案 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，包括：衬底保持装置，构造成保持衬底；调制器，包括用于发射电磁辐射的多个辐射源，配置成用根据期望的图案调制的多个辐射束曝光目标部分；投影系统，配置成将经过调制的束投影到目标部分上并且包括用于接收所述多个辐射束的光学元件阵列；以及致动器，配置成在目标部分的曝光过程中相对于所述多个辐射源移动所述光学元件阵列，其中所述多个辐射束的二维阵列用所述多个光学元件中的单个光学元件成像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480058326.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
