[发明专利]光电转换装置有效
申请号: | 201480058657.1 | 申请日: | 2014-10-24 |
公开(公告)号: | CN105684159B | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 木本贤治;小出直城;邹柳民;小林正道 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L21/28;H01L31/0747 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 权太白;戚传江 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种能够抑制包含杂质的非晶态半导体层与形成于该非晶态硅层上的电极的接触电阻变大,从而提高元件特性的光电转换装置。光电转换元件(10)具备硅基板(12)、第1非晶态半导体层(20n)、第2非晶态半导体层(20p)、第1电极(22n)和第2电极(22p)。一方的电极(22n)包括第1导电层(26n、26p)和第2导电层(28n、28p)。第1导电层(26n、26p)将第1金属作为主要成分。第2导电层(28n、28p)包含比第1金属更容易被氧化的第2金属,与第1导电层(26n、26p)相接地形成,并且与第1导电层(26n、26p)相比更配置于硅基板(12)的附近。 | ||
搜索关键词: | 光电 转换 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光电转换装置,其特征在于,具备:半导体基板;具有第1导电类型的第1半导体层;与所述第1导电类型相反的第2导电类型的第2半导体层;形成于所述第1半导体层上的第1电极;以及形成于所述第2半导体层上的第2电极,所述第1电极包括:第1导电层;以及与所述第1导电层相接地形成的第2导电层,所述第1导电层包含第1金属来作为主要成分,所述第2导电层包含比所述第1金属更容易被氧化的第2金属,所述第2导电层包含氧原子,所述第2导电层中的所述氧原子的最大浓度位于比所述第2导电层的膜厚方向的中央靠与所述半导体基板相反的一侧处。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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