[发明专利]成像系统和成像方法在审
| 申请号： | 201480059289.2 | 申请日： | 2014-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN105682555A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | O.海德 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 侯宇 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种成像系统，其带有用于发出辐射的辐射源、具有规则的探测器元件阵列的辐射探测器和具有规则重复的图案的荫罩。所述荫罩和所述辐射探测器这样布置，以便在所述探测器位置处通过所述辐射产生所述荫罩的图案的投影。所述图案的无失真投影的空间重复长度不同于所述探测器元件阵列的空间重复长度的二倍。本发明还涉及一种成像方法，其中应用根据前述权利要求之一所述的成像系统，以借助辐射探测器来测量由待检查对象造成的、所述荫罩的图案在辐射探测器的位置处的投影的位移。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种成像系统(1)，其带有‑用于发出辐射(5)的辐射源(3)，‑辐射探测器(13)，其具有规则的探测器元件(13i)阵列，‑荫罩(15)，其具有规则重复的图案，其中，所述荫罩(15)和所述辐射探测器(13)这样布置，以便在所述探测器(13)位置处通过所述辐射(5)产生所述荫罩(15)的图案的投影(25,25')，并且其中，所述图案的无失真投影(25)的空间重复长度(26)不同于所述探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)的二倍。
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