[发明专利]用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201480059395.0 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN105683839B | 公开（公告）日： | 2017-08-08 |
| 发明（设计）人： | M·霍本;A·德考克;H·J·M·凡阿毕伦;M·A·P·范德赫乌维尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种支撑衬底(W)的表面的支撑台(WT)，其中所述支撑台包括基部表面(22)，所述基部表面与衬底的表面基本上平行；多个凸起(20)，所述多个凸起突出于基部表面之上，所述多个凸起中的每一个凸起具有各自的末端和高于基部表面的第一高度，所述凸起被布置为使得当衬底被支撑台支撑时，衬底被各自的末端支撑；以及被间隙分开的多个细长凸起的突出部(45)，所述多个细长凸起的突出部中的每一个具有高于基部表面的第二高度，其中所述细长凸起的突出部在凸起之间突出于基部表面之上，并且第二高度小于第一高度；其中突出部(45)被布置为使得多个间隙被对准以形成朝向基部表面的边缘的直线气流路径(82)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 支撑 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置为支撑衬底的下表面，其中所述支撑台包括：基部表面，所述基部表面被配置为与支撑在支撑台上的衬底的下表面基本上平行，多个凸起，所述多个凸起突出于基部表面之上，所述多个凸起中的每一个凸起具有各自的末端和高于基部表面的第一高度，所述多个凸起被布置为使得当衬底被支撑台支撑时，衬底被多个凸起中的每一个凸起的各自的末端支撑，以及被间隙分开的多个细长凸起的突出部，所述多个细长凸起的突出部中的每一个具有高于基部表面的第二高度，其中所述多个细长凸起的突出部在凸起之间突出于基部表面之上，并且第二高度小于第一高度；其中所述突出部被布置为使得多个间隙被对准以形成从基部表面的中心朝向基部表面的边缘的直线气流路径。
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