[发明专利]控制炉内坩埚的温度在审
申请号: | 201480060636.3 | 申请日: | 2014-11-03 |
公开(公告)号: | CN105705682A | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 伯纳德·D·琼斯;迪安·C·斯凯尔顿;托马斯·S·麦吉;罗伯特·艾伯纳 | 申请(专利权)人: | 艾伯纳工业筑炉有限公司 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | 本发明涉及一种用于生长晶体的炉系统。该炉系统包括用于生长晶体的坩埚(110)和包括具有内部容积(Vi)的壳体(121)的炉(120)。壳体(121)包括连接内部容积(Vi)与壳体(121)的环境的通孔(124)。绝热塞(101)能够可移动地插入通孔(124)中,以控制通过辐射而至坩埚(110)之外的热提取,其中绝热塞(101)没有与坩埚(110)有力传递的接触。 | ||
搜索关键词: | 控制 坩埚 温度 | ||
【主权项】:
用于生长晶体的炉系统,该炉系统包括:用于生长晶体的坩埚(110),炉(120),炉(120)包括具有内部容积(Vi)的壳体(121),该内部容积(Vi)形成加热区,其中,坩埚(110)布置在内部容积(Vi)中,其中壳体(121)包括连接内部容积(Vi)与壳体(121)的环境的通孔(124),和绝热塞(101),该绝热塞(101)能够可移动地插入通孔(124)中,以控制通过辐射从坩埚(110)向外的热提取,其中绝热塞(101)没有与坩埚(110)有力传递接触。
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