[发明专利]用于控制EUV光源中的靶材料的微滴的系统和方法

摘要

公开了用于创建并利用来自激光产生等离子体(LPP)极紫外(EUV)光系统中的单一个激光源的双激光幕帘以控制微滴释放和/或辐照的方法和装置。包括一个或多个传感器的第一组传感器在靶材料的微滴通过一个或多个幕帘时对它们进行检测以使得能够调节微滴发生器的定向以将随后的微滴更精确地引导至辐照部位，包括一个或多个传感器的第二组传感器在微滴通过一个或多个幕帘时对它们进行检测以确定源激光器应该何时生成脉冲使得脉冲将与微滴在相同的时间抵达辐照部位。

主权项

1.一种用于对具有以估计速率释放微滴的微滴发生器的极紫外激光产生等离子体(EUV LPP)光源中的源激光器的发射定时的系统，所述源激光器将脉冲发射在辐照部位处，所述系统包括：微滴照射模块，包括被配置成生成第一激光幕帘和第二激光幕帘的单一个线激光器，所述第一激光幕帘和所述第二激光幕帘是正交偏振的并且每一个位于所述微滴发生器与所述辐照部位之间；微滴检测模块，包括被配置成检测当所述微滴通过所述第一激光幕帘时的闪光的第一传感器；第一控制器，被配置成：基于由所述第一传感器检测到的所述闪光、从所述第一激光幕帘到所述辐照部位的已知距离和所述微滴的所述估计速率，确定所述源激光器应该发射脉冲的时间以便在所述微滴到达所述辐照部位时辐照所述微滴；和生成指示所述源激光器在确定的所述时间发射的定时信号；第二传感器，被配置成检测所述微滴通过所述第二激光幕帘时的闪光；和第二控制器，被配置成基于由所述第二传感器检测到的所述闪光确定所述微滴不在通向所述辐照部位的期望轨迹上，并且提供指示出对所述微滴发生器释放随后的微滴的方向的调节的信号，以将所述随后的微滴放置在所述期望轨迹上。