[发明专利]光刻方法和设备有效
| 申请号： | 201480062809.5 | 申请日： | 2014-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN105723283B | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | J·博格斯尼古洛;H·诺贝尔;J·J·M·巴塞曼斯;B·斯米特斯;P·J·M·范艾德丽切姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种对由光学系统形成的光学图像进行校正的方法，所述方法包括：获得指示所述光学系统的整个光瞳平面上的、对于在光学系统的像平面中的每个空间位置的所述光学系统的偏振相关特性的图，将指示所述光学系统的偏振相关特性的图与输入辐射束的强度和偏振的辐射图相组合以形成图像图，以及使用所述图像图来对通过引导所述输入辐射束经过所述光学系统而形成的光学图像进行校正。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 偏振相关特性 光学图像 输入辐射 图像图 校正 方法和设备 光瞳平面 空间位置 辐射图 像平面 光刻 偏振 | ||
【主权项】：
1.一种用于对由光学系统所形成的光学图像进行校正的方法，所述方法包括：获得指示横跨所述光学系统的整个光瞳平面的、对于在所述光学系统的像平面中的每个空间位置的所述光学系统的偏振相关特性的图；将指示所述光学系统的偏振相关特性的图与输入辐射束的强度和偏振的辐射图相组合以形成图像图；以及使用所述图像图来对通过引导所述输入辐射束经过所述光学系统而形成的光学图像进行校正。
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