[发明专利]电子元件用钛铜有效
申请号: | 201480063082.2 | 申请日: | 2014-09-11 |
公开(公告)号: | CN105745341B | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 堀江弘泰 | 申请(专利权)人: | JX金属株式会社 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;H01B1/02;H01B5/02;C22F1/00;C22F1/08 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种具有较大Ti浓度波动的钛铜。该钛铜是电子元件用钛铜,其含有2.0~4.0质量%的Ti,作为第三元素合计含有0~0.5质量%的选自由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B以及P组成的群中的一种以上元素,剩余部分由铜以及不可避免的杂质构成,针对与轧制方向平行的剖面处的<100>晶向的晶粒进行了母相中的Ti浓度的面分析时的Ti浓度的最大最小差为5~16质量%。 | ||
搜索关键词: | 电子元件 用钛铜 | ||
【主权项】:
1.一种钛铜,其为电子元件用钛铜,该钛铜含有2.0~4.0质量%的Ti,作为第三元素合计含有0~0.5质量%的选自由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B以及P组成的群中的一种以上元素,剩余部分由铜以及不可避免的杂质构成,其中,针对与轧制方向平行的剖面处的<100>晶向的晶粒进行了母相中的Ti浓度的面分析时的Ti浓度的最大最小差为5~16质量%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JX金属株式会社,未经JX金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480063082.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。