[发明专利]对动态汽化减少改进的低温容器、超导磁体和MR检查系统有效

专利信息
申请号: 201480063601.5 申请日: 2014-10-17
公开(公告)号: CN105745554B 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: C·L·G·哈姆 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: G01R33/38 分类号: G01R33/38;F17C13/00;H01F6/00;G01R33/3815
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 李光颖;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种低温容器(200),所述低温容器尤其用在磁共振检查系统(110)中以将所述磁共振检查系统(110)的超导主线圈(142、144)安装在所述低温容器中,所述低温容器包括:内容器(202)、外300K容器(204)以及辐射屏蔽(206),所述辐射屏蔽被定位在所述内容器(202)与所述外300K容器(204)之间,并且所述辐射屏蔽包围所述内容器(202),其中,所述辐射屏蔽(206)具有至少一个干摩擦区域(206),其中,干摩擦在所述辐射屏蔽(206)的变形后生成。本发明还提供一种用于磁共振检查系统(110)的超导磁体(114),其包括一组超导主线圈(142、144),所述一组超导主线圈被布置在上述低温容器(200)中。本发明还提供一种磁共振检查系统(110),其包括上述超导磁体(122)。
搜索关键词: 动态 汽化 减少 改进 低温 容器 超导 磁体 mr 检查 系统
【主权项】:
一种低温容器(200),所述低温容器尤其用在磁共振检查系统(110)中以将所述磁共振检查系统(110)的超导主线圈(142、144)安装在所述低温容器中,所述低温容器包括:外300K容器(204);以及辐射屏蔽(206),其被定位在所述外300K容器(204)的内部;以及内安装结构(202),其用于安装所述超导主线圈(142、144),所述内安装结构被定位在所述辐射屏蔽(206)内,其中,所述辐射屏蔽(206)具有至少一个干摩擦区域(206),在所述至少一个干摩擦区域中,干摩擦在所述辐射屏蔽(206)的变形后生成。
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