[发明专利]EUV投射光刻的照明系统有效
| 申请号： | 201480063956.4 | 申请日： | 2014-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN105765460B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | M.帕特拉;R.米勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军;张邦帅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种EUV投射光刻的照明系统，包含：光束成形光学单元(6)，用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)。解耦光学单元(8)用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9i)。光束引导光学单元(10)用于在各个情况中引导各EUV单独输出光束(9i)朝向物场(11)，光刻掩模(12)可布置在所述物场中。结果，照明系统高度无损失，并且同时灵活引导基于同步加速器辐射的光源的EUV光。 | ||
| 搜索关键词： | euv 投射 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】：
1.一种EUV投射光刻的照明系统的偏转光学单元(13；35；36；37,38；39；40)‑包含多个偏转反射镜(D1至D4；D1至D5,D1至D6；D1至D8)，EUV辐射(3)以掠入射在共同的偏转入射平面(xz)中连续地照射在所述多个偏转反射镜上，‑其中设置了用于掠入射的至少四个偏转反射镜(D1至D4)，所述至少四个偏转反射镜在所述偏转入射平面(xz)中联合地具有多于70°的偏转效应，‑其中，所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凸柱形反射镜和/或所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凹柱形反射镜。
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