[发明专利]EUV投射光刻的照明系统有效
申请号: | 201480063956.4 | 申请日: | 2014-11-21 |
公开(公告)号: | CN105765460B | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | M.帕特拉;R.米勒 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军;张邦帅 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种EUV投射光刻的照明系统,包含:光束成形光学单元(6),用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)。解耦光学单元(8)用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9i)。光束引导光学单元(10)用于在各个情况中引导各EUV单独输出光束(9i)朝向物场(11),光刻掩模(12)可布置在所述物场中。结果,照明系统高度无损失,并且同时灵活引导基于同步加速器辐射的光源的EUV光。 | ||
搜索关键词: | euv 投射 光刻 照明 系统 | ||
【主权项】:
1.一种EUV投射光刻的照明系统的偏转光学单元(13;35;36;37,38;39;40)‑包含多个偏转反射镜(D1至D4;D1至D5,D1至D6;D1至D8),EUV辐射(3)以掠入射在共同的偏转入射平面(xz)中连续地照射在所述多个偏转反射镜上,‑其中设置了用于掠入射的至少四个偏转反射镜(D1至D4),所述至少四个偏转反射镜在所述偏转入射平面(xz)中联合地具有多于70°的偏转效应,‑其中,所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凸柱形反射镜和/或所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凹柱形反射镜。
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