[发明专利]光学材料用聚合性组合物、光学材料及其制造方法在审
申请号: | 201480066299.9 | 申请日: | 2014-12-12 |
公开(公告)号: | CN105793738A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 柿沼直志;桥本俊哉;小岛甲也 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04;C08G18/38;C08L75/04;G02C7/10 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的光学材料用聚合性组合物包含多异氰酸酯(A)、多硫醇(B)、下述通式(1)表示的酸性磷酸酯(C)、和极大吸收峰在350nm以上370nm以下的范围内的一种以上的紫外线吸收剂(D),在以多异氰酸酯(A)中的异氰酸酯基的总摩尔数为100摩尔%时,包含20摩尔%以上的仲异氰酸酯基,且以相对于多异氰酸酯(A)和多硫醇(B)的总重量为100~700ppm的量包含酸性磷酸酯(C)。 | ||
搜索关键词: | 光学材料 聚合 组合 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光学材料用聚合性组合物,其包含:多异氰酸酯(A);多硫醇(B);下述通式(1)表示的酸性磷酸酯(C),式中,m表示整数1或2,n表示0~18的整数,R1表示碳原子数1~20的烷基,R2、R3各自独立地表示氢原子、甲基或乙基;和,一种以上的紫外线吸收剂(D),所述紫外线吸收剂(D)的极大吸收峰在350nm以上370nm以下的范围内,在以多异氰酸酯(A)中的异氰酸酯基的总摩尔数为100摩尔%时,包含20摩尔%以上的仲异氰酸酯基,以相对于多异氰酸酯(A)和多硫醇(B)的总重量为100~700ppm的量包含酸性磷酸酯(C)。
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