[发明专利]用于处理器件的处理设备以及用于传送蒸发源的方法

摘要

一种用于处理器件(特别是在所述器件中包含有机材料的器件)的处理设备被描述。所述处理设备包含处理真空腔室；用于有机材料的至少一个蒸发源，其中所述至少一个蒸发源包含至少一个蒸发坩锅，其中所述至少一个蒸发坩锅经配置以蒸发所述有机材料，及具有一个或多个出口的至少一个分布管路，其中所述至少一个分布管路与所述至少一个蒸发坩锅流体连通；及与所述处理真空腔室连接的维护真空腔室，其中所述至少一个蒸发源可从所述处理真空腔室被传送至所述维护真空腔室，及从所述维护真空腔室至所述处理真空腔室。

主权项

1.一种用于处理器件的处理设备，所述处理设备包括：处理真空腔室；用于材料的至少一个蒸发源，其中所述至少一个蒸发源包括：至少一个蒸发坩锅；及与所述至少一个蒸发坩锅流体连通的具有一个或多个出口的至少一个分布管路；及与所述处理真空腔室连接的维护真空腔室，其中所述至少一个蒸发源可在所述处理真空腔室与所述维护真空腔室之间传送，所述维护真空腔室与所述处理真空腔室的所述连接包含开口，所述开口经配置以用于所述蒸发源在所述处理真空腔室和所述维护真空腔室之间的所述传送，其中所述处理设备进一步包括密封装置，所述密封装置经配置以用于封闭所述开口，其中所述密封装置附接至所述至少一个蒸发源。