[发明专利]辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 201480068191.3 | 申请日： | 2014-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN105830198B | 公开（公告）日： | 2017-10-27 |
| 发明（设计）人： | M·P·C·范赫尤门 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H01J61/04 | 分类号： | H01J61/04;G03F7/20;H01J61/52 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种辐射源设备，包括容器，其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁，其中发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发气体介质之后生成；和热负荷施加器，其适于将热负荷应用到容器的壁的至少一部分以减少壁中的应力。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 设备 光刻 系统 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种辐射源设备，包括：容器，其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁，其中，发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发所述气体介质之后生成；以及热负荷施加器，其适于将热负荷应用到所述容器的所述壁的至少一部分以减少所述壁中的应力。
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