[发明专利]用于测量衬底上的结构的方法和设备、用于误差校正的模型、用于实施这样的方法和设备的计算机程序产品有效
申请号: | 201480072918.5 | 申请日: | 2014-11-05 |
公开(公告)号: | CN105900016B | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | M·P·敏克;J·M·布鲁克;I·塞蒂加 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/24;G01N21/47;G01N21/956 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种重构过程包括测量通过光刻工艺形成在衬底上的结构,确定用于生成模型化图案的重构模型,计算并最小化包括模型误差的多变量成本函数。由讨厌参数导致的误差基于通过概率密度函数描述的讨厌参数的行为的统计描述被建模。从统计描述计算在平均模型误差和加权矩阵方面所表示的模型误差。这些被用于修改成本函数以便减少重构中的讨厌参数的影响,而不增加重构模型的复杂性。讨厌参数可以是模型化结构的参数,和/或重构中使用的检查设备的参数。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 衬底 结构 方法 设备 误差 校正 模型 实施 这样 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】:
一种测量衬底上的结构的参数的方法,所述方法包括如下步骤:(a)定义数学模型,在所述数学模型中所述结构的形状和材料性质由包括至少一个感兴趣的参数的多个参数代表;(b)用辐射照射所述结构并且检测由于所述辐射与所述结构之间的相互作用而产生的信号;(d)通过在使所述感兴趣的参数变化并且使至少一个其他参数不变化的情况下模拟所述辐射与所述数学模型之间的相互作用,计算多个模型信号;(e)通过在使所述其他参数根据假定的统计行为变化的情况下模拟所述辐射与所述数学模型之间的相互作用,计算对于所述其他参数的影响的模型;(f)在使用所述影响的模型来抑制所述其他参数的在所述模型信号中没有被代表的变化的影响的情况下,计算在检测到的信号与在步骤(d)中计算的模型信号中的至少一些之间的匹配的程度;(g)基于计算的所述匹配的程度报告所述感兴趣的参数的测量。
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