[发明专利]通过斐索干涉术测量球形像散光学区域的方法有效

专利信息
申请号: 201480073553.8 申请日: 2014-12-19
公开(公告)号: CN105917190B 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: S.舒尔特;F.希尔克 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈钘;张邦帅
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种测量球形像散光学区域(40)的方法,包含以下步骤:a)通过波前生成装置(10)产生球形像散波前作为测试波前;b)干涉地测量在所述波前生成装置(10)与所述球形像散区域(40)之间的波前差,所述球形像散表面适配于所述波前生成装置(40),使得所述测试波前基本在竖直方向上照射在所述球形像散区域(40)中的任意点,进行多个测量,在所述多个测量中,在围绕像散半径的两个中心球形化和/或围绕球形像散区域(40)的表面法线旋转180°的多个位置处测量所述球形像散区域(40),从而确定相应干涉图位相;以及c)通过数学重建法,建立所述波前生成装置(10)的波前和所述球形像散区域(40)的形状,因此,所述球形像散区域(40)的表面通过使用合适的处理方法来校正,步骤a)至c)被重复直到所述波前差小于限定阈值。
搜索关键词: 通过 干涉 测量 球形 散光 区域 方法
【主权项】:
1.一种测量球形像散光学表面(40)的方法,包含以下步骤:a)通过波前生成装置(10)产生球形像散波前作为测试波前;b)干涉地测量在所述波前生成装置(10)与所述球形像散光学表面(40)之间的波前差,所述球形像散光学表面适配于所述波前生成装置,使得所述测试波前在所述球形像散光学表面(40)的各个点处基本垂直地入射,其中,进行多个测量,在所述多个测量中,在围绕像散半径的两个中心球形化和/或围绕球形像散光学表面(40)的表面法线旋转180°的多个位置处测量所述球形像散光学表面(40),其中相应干涉图位相得到确定;以及c)通过数学重建法,建立所述波前生成装置(10)的波前和所述球形像散光学表面(40)的表面形状,由此,所述球形像散光学表面(40)的表面通过合适的处理方法来校正,其中,步骤a)至c)被重复直到所述波前差位于限定阈值下为止。
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