[发明专利]用于在等离子体系统中使用的室组件的表面涂层在审
| 申请号： | 201480073572.0 | 申请日： | 2014-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN106414789A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 卡洛·瓦尔德弗里德 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 齐杨 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于等离子体组件的表面涂层，所述表面涂层的益处是针对侵蚀性(例如，基于氟的)等离子体环境中的化学和等离子体物理侵蚀的稳固性。与其他已知的表面处理相比，所述涂层还提供用于活性氧、氮、氟和氢物种的低等离子体表面复合速率。所述涂层还可以被涂敷到不需要蚀刻或等离子体清洗的任何等离子体系统组件，包括但不限于如石英、铝或阳极化的铝的材料。另外，通过向系统组件涂敷非反应性涂层从而增加激发的等离子体物种向所述系统的等离子体室的流动来增加系统的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 系统 使用 组件 表面 涂层 | ||
【主权项】：
一种用于减少等离子体湿润表面系统组件的反应性的涂层，其包含：具有大约如下组成的氧化钇：约60％至约80％的量的钇；约20％至约40％的量的氧；和/或具有大约如下组成的氧氮化铝：约25％至约60％之间的量的铝；约20％至约40％之间的量的氧；约20％至约40％之间的量的氮；其中所述涂层被涂敷到等离子体湿润系统的组件。
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