[发明专利]辐射源有效
| 申请号： | 201480074178.9 | 申请日： | 2014-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN105940349B | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | M·F·A·厄尔林斯;N·A·J·M·克里曼斯;A·J·J·范迪杰西尔多克;R·M·霍夫斯特拉;O·F·J·努德曼;T·N·费姆;J·B·P·范斯库特;J-C·王;K·W·张 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F21V7/09;G02B27/09;H05G2/00 |
| 代理公司： | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种琢面反射器(32,32”)，用于接收入射辐射束(2)并引导反射辐射束至目标。琢面反射器包括多个琢面，多个琢面中的每个琢面都包括反射表面。多个琢面的第一子集的每个琢面的反射表面限定第一连续表面的对应部分，并且被配置为在第一方向上反射入射辐射束的对应第一部分以提供反射辐射束的第一部分。多个琢面的第二子集的每个琢面的反射表面限定第二连续表面的对应部分，并且被配置为在第二方向上反射入射辐射束的对应第二部分以提供反射辐射束的第二部分。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 | ||
【主权项】：
1.一种配置为通过利用辐射束照射燃料目标来生成EUV辐射的辐射源，其被配置为将燃料目标转化为等离子体，其中，/n所述辐射源包括：/n束装置，具有包括多个第一反射琢面和多个第二反射琢面的反射器，所述束装置被配置用于接收初始辐射束并且修改处于所述初始辐射束的截面的空间强度轮廓，以用于提供具有不同于所述空间强度轮廓的经修改的空间强度轮廓的辐射束；以及/n其中所述束装置被配置为创建比所述空间强度轮廓更为均匀的所述经修改的空间强度轮廓，/n其中所述多个第一反射琢面均以第一角度倾斜，并且所述多个第二反射琢面均以第二角度倾斜，所述第二角度不同于所述第一角度。/n
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