[发明专利]一种真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201480079978.X | 申请日： | 2014-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN106661725B | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 文洁;何自坚 | 申请（专利权）人： | 深圳市大富精工有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/12 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 李庆波 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空镀膜设备，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及与支架连接的磁性转动组件，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，磁性转动组件包括设置于气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于气相沉积室内侧的第二旋转磁体，第一旋转磁体与所述第二旋转磁体磁性耦合，第一旋转磁体在同步电机带动下转动，并能够带动第二旋转磁体转动，进而带动支架转动。通过这样的设计，能够避免漏气现象，而且能够对待镀膜工件进行批量真空纳米镀膜，有效提高待镀膜工件真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及与所述支架连接的磁性转动组件，所述支架设置于所述气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，所述磁性转动组件包括设置于所述气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于所述气相沉积室内侧的第二旋转磁体，所述第一旋转磁体与所述第二旋转磁体磁性耦合，所述第一旋转磁体在同步电机带动下转动，并能够带动所述第二旋转磁体转动，进而带动所述支架转动；所述真空镀膜设备进一步包括排气柱，所述排气柱贯穿所述气相沉积室设置，所述第一旋转磁体和所述第二旋转磁体分别转动支撑于所述排气柱上且能够绕所述排气柱进行转动，进而带动所述支架绕所述排气柱进行转动；所述真空镀膜设备进一步包括裂解炉，所述裂解炉与所述气相沉积室连通，以将所述裂解炉内的高分子材料裂解气体导入至所述气相沉积室内。
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