[发明专利]分析方法、分析装置及分析程序有效
| 申请号： | 201480081466.7 | 申请日： | 2014-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN106796174B | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 野口道子;尾崎光男;臼井康博 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/35 | 分类号： | G01N21/35;G01N21/65 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的分析方法是将邻苯二甲酸酯从向其照射电磁波而得的光谱进行辨别。该分析方法是准备使不同种类的邻苯二甲酸酯例如(DEHP)和(DINP)分别附着于设置在金属板上的PVC等一对规定基底膜的第1试样和第2试样，使不同种类的邻苯二甲酸酯成为不同状态。向准备的第1试样和第2试样分别照射电磁波，取得金属反射(IR)光谱(P)和金属反射(IR)光谱(Q)。对于不同种类的邻苯二甲酸酯，可得到具有显著差别的光谱，并且使用该光谱能够进行邻苯二甲酸酯类的种类的辨别。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 方法 装置 程序 | ||
【主权项】：
1.一种分析方法，其特征在于，包括如下工序：准备将第1邻苯二甲酸酯和第2邻苯二甲酸酯分别附着于一对第1基底膜和第2基底膜，使所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯成为彼此不同的状态的第1试样和第2试样的工序，对所述第1试样和所述第2试样分别照射电磁波，取得第1光谱和第2光谱的工序，其中，所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯的所述不同状态，是因通过将所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯附着于所述第1基底膜和所述第2基底膜而成为与单体不同的状态以及相对于所述第1基底膜和所述第2基底膜的吸收的状态为不同而产生的。
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