[发明专利]固定位置控制装置以及方法有效
| 申请号： | 201480082061.5 | 申请日： | 2014-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN107076673B | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 藤冈满;曾根原刚志;板桥直志 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G01N21/64 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 柯瑞京 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明能够无需中断测定而以简单的构成高精度地控制向多纳米细孔基板的激励光照射。针对设置在观察容器(103)中的基板上的至少一个纳米细孔和至少一个基准对象，同时进行激励光的照射，基于由检测器(109)检测的从基准对象产生的信号，运算激励光照射向测定样品的位置，基于运算结果由驱动控制部(115)来控制针对测定样品的激励光照射的位置，同时进行测定对象的测定，从而同时进行测定和固定位置控制，由此能够短时间地进行测定样品的解析。 | ||
| 搜索关键词： | 固定 位置 控制 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种固定位置控制装置，其特征在于，具备：照射光学系统，能同时进行多个激励光的照射；检测器，进行通过所述激励光照射而从照射位置产生的信号的检测；基板，设置至少一个纳米细孔和至少一个基准对象；以及位置控制部，向位于所述纳米细孔的测定样品和所述基准对象同时照射所述激励光，根据从所述基准对象得到的所述信号，运算所述激励光照射向所述测定样品的位置，并基于该运算结果来控制针对所述测定样品的激励光照射的位置，在进行所述激励光照射的位置控制的同时进行针对所述测定样品的测定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术，未经株式会社日立高新技术许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201480082061.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于接入认证的访问网络的方法和系统
- 下一篇：微机综合保护装置
