[发明专利]离子注入装置有效
申请号: | 201480082170.7 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN107078005B | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 绫淳 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01J27/08 | 分类号: | H01J27/08;H01J37/317 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 目的在于得到能够缩短固体材料的升华温度稳定化时间而提高工作效率的离子注入装置。离子注入装置具有:真空分隔壁(1),其内部保持为真空;固体填充容器(3),其整体配置于所述真空分隔壁(1)的内部,填充有固体材料(8);加热器(7),其使在所述固体填充容器(3)中填充的所述固体材料(8)升华而生成原料气体(9);电弧室(6),其将所述原料气体(9)离子化而作为离子束(11)射出;气体供给喷嘴(10),其将所述原料气体(9)从所述固体填充容器(3)引导至所述电弧室(6);以及支撑件(4),其将所述固体填充容器(3)支撑固定于所述真空分隔壁(1),所述支撑件(4)与所述真空分隔壁(1)及所述固体填充容器(3)相比导热性低。 | ||
搜索关键词: | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】:
1.一种离子注入装置,其特征在于,具有:真空分隔壁,其内部保持为真空;固体填充容器,其整体配置于所述真空分隔壁的内部,填充有固体材料;加热器,其使在所述固体填充容器中填充的所述固体材料升华而生成原料气体;电弧室,其将所述原料气体离子化而作为离子束射出;气体供给喷嘴,其将所述原料气体从所述固体填充容器引导至所述电弧室;以及支撑件,其将所述固体填充容器支撑固定于所述真空分隔壁,所述支撑件与所述真空分隔壁及所述固体填充容器相比导热性低,所述固体填充容器与所述真空分隔壁相比被薄壁化。
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