[发明专利]粒子射线照射设备

摘要

本发明的粒子射线照射设备(100)中，控制部(2)在最初对准时，将摄像机(10(10‑1、10‑2、…、10‑n))获取到的电磁体(1(1A、1B))的位置信息作为基准位置的位置信息存储到存储部(3)中，基于存储在存储部(3)中的基准位置的位置信息，并根据重新对准时由摄像机(10(10‑1、10‑2、…、10‑n))获取到的电磁体(1(1A、1B))的位置信息来获取位移量。

主权项

1.一种粒子射线照射设备，其特征在于，包括：第一电磁体，该第一电磁体设置在高能射束照射系统线的上游侧；第二电磁体，该第二电磁体设置在所述高能射束照射系统线的下游侧；位置信息获取单元，该位置信息获取单元获取所述第一电磁体与所述第二电磁体之间的相对位置信息；存储部，该存储部预先存储最初对准时的所述第一电磁体与所述第二电磁体之间的相对位置信息来作为基准位置信息；调整机构，该调整机构对所述第一电磁体以及所述第二电磁体的位置和姿态进行调整；以及控制部，该控制部基于存储在所述存储部中的基准位置信息，根据在重新对准时由所述位置信息获取单元获取到的所述第一电磁体和所述第二电磁体之间的相对位置信息来计算从最初对准时到重新对准时的所述第一电磁体以及所述第二电磁体的位置和姿态的位移量，根据所述位移量并通过所述调整机构对所述第一电磁体和所述第二电磁体的位置和姿态进行调整控制。