[发明专利]用于从原位沉积的磁性叠层制造自旋逻辑器件的方法有效
| 申请号： | 201480083526.9 | 申请日： | 2014-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN107004760B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | D·J·米夏拉克;S·马尼帕特鲁尼;J·S·克拉克;D·E·尼科诺夫;I·A·扬 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | H01L43/08 | 分类号： | H01L43/08;H01L43/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;王英 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种方法，包括：在衬底或模板上形成磁体，所述磁体具有界面；在所述磁体的界面上形成非磁体导电材料的第一层，使得原位形成所述磁体和非磁体导电材料的层。描述了一种装置，包括：形成在衬底或模板上的磁体，所述磁体在结晶、电磁或热力条件下形成，所述磁体具有界面；以及形成在磁体的界面上的非磁体导电材料的第一层，使得原位形成所述磁体和所述非磁体导电材料的层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 原位 沉积 磁性 制造 自旋 逻辑 器件 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：在衬底或模板上形成磁体，所述磁体具有界面；以及在所述磁体的界面上形成非磁体导电材料的第一层，使得原位形成所述磁体和所述非磁体导电材料的层。
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