[发明专利]分析装置有效
申请号: | 201480084673.8 | 申请日: | 2014-12-25 |
公开(公告)号: | CN107430979B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 山口真一;梅村佳克;池上将弘;田中浩二 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | H01J49/40 | 分类号: | H01J49/40 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 质谱校正部(42)每当获得质谱数据时都进行以下处理:利用源自m/z值已知的内标物质的峰的出现位置来求出质谱偏差量并校正该质谱偏差量。质谱校正信息收集部(43)收集每个质谱数据的质谱偏差量或质谱校正量,在测定结束后,三维显示信息制作部(44)在将全二维LC部(1)中的一维柱的保持时间和二维柱的保持时间设为正交的两个轴并对与这两个轴正交的轴取质谱校正量所得到的三维空间内,制作将收集到的多个质谱校正量配置为标绘点的三维图表。由此,一目了然分离特性不同的各柱的保持时间与质谱偏差量之间的关系,例如能够在测定执行过程中容易地掌握质谱偏差量异常地增加那样的状况。 | ||
搜索关键词: | 分析 装置 | ||
【主权项】:
1.一种分析装置,针对多个试样或者针对一个试样执行N维空间上的各微小区域内的分析来获取作为信号强度值的分析数据,其中,所述N维空间是现实空间或虚拟空间,N为2以上的整数,该分析装置的特征在于,具备:a)误差信息收集部,其在执行各所述微小区域内的分析时收集与分析有关的误差量或用于校正该误差量的校正信息;以及b)图表制作部,其在对形成所述N维空间的N个轴增加表示所述误差量或所述校正信息的轴所得到的N+1维的空间内,制作表示基于由所述误差信息收集部收集到的每个微小区域的误差量或校正信息的分布的图表,并将该图表显示在显示部的画面上。
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