[其他]靶材布置和处理设备有效
| 申请号： | 201490001521.2 | 申请日： | 2014-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN206858649U | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | F·施纳朋伯格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;H01J37/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种靶材布置和处理设备。描述了一种用于处理设备(105；107)的靶材布置(100；101；102；103；104；106)。所述靶材布置包括靶材支座(110)，所述靶材支座配置成用于支撑非平面靶材材料(120)，其中靶材支座(110)包括真空侧(130)和大气侧(140)。此外，描述了一种适用于靶材布置的处理设备。 | ||
| 搜索关键词： | 布置 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种用于处理设备(105；107)的靶材布置(100；101；102；103；104；106)，所述靶材布置包括：靶材支座(110)，所述靶材支座配置成用于支撑非平面靶材材料(120)，所述非平面靶材材料沿一长度延伸，并具有一表面，所述表面具有圆弧的形式，其中所述弧的长度定义为(Θ/180)π*R，其中Θ<360°，其中所述靶材支座(110)包括真空侧(130)和大气侧(140)；并且其中所述靶材支座提供中空区段(115)，从而允许至少部分地将磁体组件容纳在所述靶材支座中。
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