[发明专利]柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机有效
申请号: | 201510005916.0 | 申请日: | 2015-01-07 |
公开(公告)号: | CN104513967B | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 谈琦 | 申请(专利权)人: | 四川亚力超膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙)51227 | 代理人: | 周永宏 |
地址: | 610106 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机,包括真空系统、卷绕系统和溅射系统,真空系统包括真空室和真空泵;真空系统用于将真空室内抽真空至磁控溅射需要的真空环境;卷绕系统用于实现基材的放卷和收卷,卷绕系统包括放卷机构、镀膜鼓和收卷机构;由放卷机构释放的基材经镀膜鼓,再由收卷机构进行收卷;所述的镀膜鼓附近设有压辊,所述的压辊位于镀膜鼓的基材伸入方向上;溅射系统用于对经过镀膜鼓的基材进行镀膜得到镀膜产品。本发明能够在基材上一次完成多层膜系的镀膜,且不易使塑料基材起皱,同时将圆形真空室固定,柔性基材卷绕系统和磁控溅射装置可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出到圆形真空室,使设备操作维护方便。 | ||
搜索关键词: | 柔性 基材 磁控溅射 卷绕 镀膜 | ||
【主权项】:
柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机,其特征在于,包括真空系统、卷绕系统(2)和溅射系统(3),真空系统包括真空室(1)和真空泵;卷绕系统(2)和溅射系统(3)均设置在真空室(1)内;所述的真空系统用于将真空室(1)内抽真空至磁控溅射需要的真空环境;所述的卷绕系统(2)用于实现基材的放卷和收卷,卷绕系统(2)包括放卷机构(201)、镀膜鼓(207)和收卷机构(215);由放卷机构(201)释放的基材经镀膜鼓(207),再由收卷机构(215)进行收卷,位于镀膜鼓(207)的基材伸入方向上设有压辊(206),压辊(206)与镀膜鼓(207)之间设有供基材通行的缝隙;所述的溅射系统(3)用于对经过镀膜鼓(207)的基材进行镀膜得到镀膜产品;所述的真空室(1)内部通过隔板A(101)隔离为用于安装卷绕系统(2)的卷绕室(102)和用于安装溅射系统(3)的镀膜室(103),镀膜室(103)内部通过隔板B分割成多个镀膜区间;所述的卷绕室(102)通过阀门(7)连接真空泵A(4),每个镀膜区间分别通过阀门(7)连接真空泵B(5);所述的放卷机构(201)和收卷机构(215)分别位于卷绕室(102)内相对的两侧,其中,放卷机构(201)和镀膜鼓(207)之间形成放卷张力区间,镀膜鼓(207)与收卷机构(215)之间形成收卷张力区间;在放卷张力区间设有张力测量辊A(203)、展平辊A(205)和至少一个过辊,在收卷张力区间的设有展平辊B(209)、张力测量辊B(210)和至少一个过辊,在镀膜鼓(207)上设有清洁辊(208),所述的清洁辊(208)压在镀膜鼓(207)上方没有基材包裹的位置;所述的放卷张力区间设有过辊A(202)和过辊B(204),所述的过辊A(202)位于放卷机构(201)释放基材的方向上,过辊B(204)位于张力测量辊A(203)与展平辊A(205)之间;所述的放卷张力区间从镀膜鼓(207)到收卷机构(215)的方向上依次设有过辊C(211)、过辊D(212)和过辊E(214),所述的过辊E(214)位于收卷机构(215)的基材回收方向上,过辊D(212)和过辊E(214)之间设有跟踪机构(213);所述的溅射系统(3)包括多个溅射源(301),每个溅射源(301)分别对应一个镀膜区间,并从与卷绕系统相对的方向伸入到镀膜室(103)对经过镀膜鼓(207)的基材进行镀膜,所述的溅射源(301)相对于镀膜鼓(207)的轴心呈圆周分布,所述的溅射源(301)采用中频孪生柱状靶结构。
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