[发明专利]一种基于损耗材料薄膜的增透系统有效

专利信息
申请号: 201510013322.4 申请日: 2015-01-09
公开(公告)号: CN104570165B 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 杜凯凯;李强;仇旻 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02B1/113 分类号: G02B1/113
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司33200 代理人: 杜军
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于损耗材料薄膜的增透系统。在光电子领域,经常需要在器件表面涂镀一层金属薄膜来添加电极或者加强表面的导电性能,而金属材料本身对光波存在较强的吸收和反射而阻止入射光入射到器件上,对于器件的性能以及光学检测造成了非常不利的影响。本发明利用损耗材料的物理特性,将损耗材料薄膜镀于金属薄膜上表面,通过改变损耗材料薄膜的厚度,调整原有金属薄膜的透过率,以纳米级薄膜厚度,实现对于光束的数倍的增透作用,极大地提高了系统的波长选择透过性和相应的透过率,对于光电子技术和薄膜光学的发展具有极大的促进作用。
搜索关键词: 一种 基于 损耗 材料 薄膜 系统
【主权项】:
一种基于损耗材料薄膜的增透系统,其特征在于沿光线传播方向依次包括损耗材料薄膜、金属薄膜、透明衬底;所述的损耗材料薄膜与金属薄膜厚度具体选择可根据增透系统的透射率,并通过以下计算进行求解:损耗材料薄膜与金属薄膜厚度遵循薄膜系统的特征矩阵方程,对于两层膜系统,膜系特征矩阵见公式(1):M=M1M2=cosδ1-iη1sinδ1-iη1sinδ1cosδ1cosδ2-iη2sinδ2-iη2sinδ2cosδ2=cosδ1cosδ2-η2sinδ1sinδ2η1-iη2cosδ1sinδ2-iη1sinδ1cosδ2-iη1sinδ1cosδ2-iη2cosδ1sinδ2cosδ1cosδ2-η1sinδ1sinδ2η2=ABCD---(1)]]>其中M1、M2分别为金属薄膜与损耗材料薄膜的特征矩阵;和分别为金属薄膜与损耗材料薄膜的复折射率,h1和h2分别为金属薄膜与损耗材料薄膜的厚度,λ为入射波长,ε0为真空介电常数,μ0为真空磁导率;根据公式(2)得到薄膜系统的透射系数为t=2η0Aη0+Bη0ηG+C+DηG---(2)]]>其中n0和nG分别为空气和透明衬底的折射率;则透射率为T=t·t*;所述的损耗材料薄膜由对光束有吸收损耗的材料构成。
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