[发明专利]制作阵列基板的方法和阵列基板

摘要

公开了一种制作阵列基板的方法，所述阵列基板包括设置在薄膜晶体管层上的平坦层、以及设置在所述平坦层上的用于发光器件的第一电极。所述方法包括如下步骤利用单个掩模板通过一次构图工艺在平坦层上形成用于设置所述第一电极的像素界定层、用于第一电极的过孔、以及隔垫物。利用本发明实施例的方法制作阵列基板，可以减少了构图工艺的次数，减少了掩模板的使用数量。

主权项

一种制作阵列基板的方法，所述阵列基板包括：设置在薄膜晶体管层上的钝化层、设置在所述钝化层上的平坦层、以及设置在所述平坦层上的用于发光器件的第一电极，其特征在于，所述方法包括如下步骤：利用单个掩模板通过一次构图工艺在平坦层中形成用于设置所述第一电极的像素界定层、用于第一电极的过孔、以及隔垫物；其中所述一次构图工艺包括：在所述平坦层上涂覆光刻胶；利用掩模板对所述光刻胶进行曝光和显影；采用刻蚀工艺，在平坦层的不同区域去除具有不同厚度的部分平坦层和光刻胶，以在平坦层上形成过孔、隔垫物和像素界定层；以及将未去除的光刻胶剥离。