[发明专利]一种清洁装置和清洁方法有效
| 申请号： | 201510017019.1 | 申请日： | 2015-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN104624554A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 马光和;李娟;井杨坤 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B6/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洁装置，用于对残留在显示基板表面的有机液态残留物进行清除，包括分解单元、雾化单元、剥离单元和收集单元；分解单元用于改变有机液态残留物的分子结构，以减小有机液态残留物在显示基板上的附着力；雾化单元用于使经分解单元处理后的有机液态残留物与显示基板表面分离；剥离单元用于将经雾化单元处理后的有机液态残留物从显示基板表面剥离；收集单元用于收集剥离单元剥离下来的有机液态残留物。该清洁装置通过设置分解单元、雾化单元、剥离单元和收集单元，能对显示基板表面的有机液态残留物进行有效的清除，从而提升了显示基板的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种清洁装置，用于对残留在显示基板表面的有机液态残留物进行清除，其特征在于，包括分解单元、雾化单元、剥离单元和收集单元；所述分解单元用于改变所述有机液态残留物的分子结构，以减小所述有机液态残留物在所述显示基板上的附着力；所述雾化单元用于使经所述分解单元处理后的所述有机液态残留物与所述显示基板表面分离；所述剥离单元用于将经所述雾化单元处理后的所述有机液态残留物从所述显示基板表面剥离；所述收集单元用于收集所述剥离单元剥离下来的所述有机液态残留物。
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