[发明专利]纳米二氧化硅表面引入碳碳双键的改性方法在审
申请号: | 201510018172.6 | 申请日: | 2015-01-15 |
公开(公告)号: | CN104761692A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 赖南君;郭欣;叶仲斌;周宁;江琴;李屹洋;朱鸿昊 | 申请(专利权)人: | 西南石油大学 |
主分类号: | C08F292/00 | 分类号: | C08F292/00;C08F222/06;C09C1/28;C09C3/12 |
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地址: | 610500 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及一种纳米二氧化硅表面引入碳碳双键的改性方法,其包括以下步骤:(1)测定纳米SiO2表面羟基的含量;(2)利用氨基硅烷偶联剂与纳米SiO2反应得到氨基改性纳米SiO2,测定氨基改性纳米SiO2表面氨基的含量来确定改性程度;(3)利用过量的含碳碳双键的改性剂与氨基改性纳米SiO2反应,在所述纳米SiO2表面上接枝上具有反应活性的碳碳双键。采用本发明的改性方法,不仅可以根据需要在纳米SiO2表面可以定量的接枝上具有反应活性的碳碳双键,而且可以通过控制氨基改性的程度来控制接枝上的碳碳双键的含量。 | ||
搜索关键词: | 纳米 二氧化硅 表面 引入 双键 改性 方法 | ||
【主权项】:
一种纳米二氧化硅表面引入碳碳双键的改性方法,其特征在于包括以下步骤:(1)测定纳米SiO2表面羟基的含量;(2)利用氨基硅烷偶联剂与纳米SiO2反应得到氨基改性纳米SiO2,测定氨基改性纳米SiO2表面氨基的含量来确定改性程度;(3)利用过量的含碳碳双键的改性剂与氨基改性纳米SiO2反应,在所述纳米SiO2表面上接枝上具有反应活性的碳碳双键。
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