[发明专利]一种透明导电膜聚合物层结构及制作方法有效

专利信息
申请号: 201510022717.0 申请日: 2015-01-18
公开(公告)号: CN104599745A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 朱继承 申请(专利权)人: 朱继承
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 代理人:
地址: 232000 安徽省淮*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明属于透明导电膜技术领域;该透明导电膜聚合物层结构包括基底(1)和带有沟槽结构的压印胶(2),所述压印胶(2)的沟槽内,从下到上依次填充活性聚合物(4)和导电金属材料(5),其制作方法首先在压印胶(2)的沟槽内,添加活性聚合物(4),然后在活性聚合物(4)上方,化学镀导电金属材料(5),最后将导电金属材料(5)表面作发黑处理;本发明将现有技术中的种子层替换为活性聚合物(4),不仅有利于降低透明导电膜的材料成本及制作成本,而且具有提高透明导电膜产品可视效果的潜质。
搜索关键词: 一种 透明 导电 聚合物 结构 制作方法
【主权项】:
一种透明导电膜聚合物层结构,其特征在于,包括基底(1)和带有沟槽结构的压印胶(2),所述压印胶(2)的沟槽内,从下到上依次填充活性聚合物(4)和导电金属材料(5)。
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