[发明专利]一种基于透射电子显微镜观察激光诱导晶化纳米薄膜截面晶粒特征的样品制备方法有效
申请号: | 201510024548.4 | 申请日: | 2015-01-18 |
公开(公告)号: | CN104596818B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 朱赞;刘富荣;杨继峰 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N23/04 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司11203 | 代理人: | 刘萍 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明是一种基于透射电子显微镜观察激光诱导晶化纳米薄膜截面晶粒特征的样品制备方法。该方法步骤1.运用磁控溅射手段在用于透射电子显微镜观察的基底上镀一层薄膜;2.将两片薄膜镀膜面相对贴合并固定,并剪断一部分;3.将剪断的薄膜用两块板状材料夹住,断面处在两块板状材料边缘的缝隙之中;4.断面用激光器进行单脉冲辐照;5.将其中一片薄膜平放在透射电子显微镜下进行观察,其断面边缘的晶化区域即为所要观察的激光辐照截面的晶粒生长形貌。该方法不通过镶样、磨试样,离子减薄等一系列复杂手段进行样品制备,流程时间大大缩短,污染非常小,且结果可信度较高。此方法对于揭示相变材料在厚度方向上的晶化行为的研究具有重大意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 透射 电子显微镜 观察 激光 诱导 纳米 薄膜 截面 晶粒 特征 样品 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于透射电子显微镜观察激光诱导晶化纳米薄膜截面晶粒特征的样品制备方法,其步骤包括:(1)运用磁控溅射手段,在基底上镀一层相变薄膜材料;(2)取(1)中制备的材料2片,使相变薄膜材料层相对贴合并固定;(3)将重合的两片材料剪断一部分,用两块板状材料夹住固定,使相变薄膜材料层断面处在两块板状材料边缘的缝隙之中;(4)使其断面正对光源进行单脉冲辐照;(5)将薄膜断面经过上述辐照的基底平放在透射电子显微镜下进行观察,其断面边缘的晶化深度即为所要观察的截面形貌。
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