[发明专利]一种 III 族半导体发光器件在审
申请号: | 201510027630.2 | 申请日: | 2015-01-20 |
公开(公告)号: | CN104659177A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 许顺成 | 申请(专利权)人: | 湘能华磊光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/62;H01L33/44 |
代理公司: | 北京爱普纳杰专利代理事务所(特殊普通合伙) 11419 | 代理人: | 何自刚 |
地址: | 423038 湖南省郴*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本申请公开了一种III族半导体发光器件,包括:自下而上依次设置的衬底、缓冲层、n型氮化物半导体层、有源层和p型氮化物半导体层,并构成凸台,其中,凸台的上表面为p型氮化物半导体层的上表面;凸台表面上还设有N型线电极,N型线电极下方的有源层为被蚀刻掉或N型线电极下方的有源层为被部分蚀刻掉,N型线电极还连接有N型焊盘,该N型焊盘位于有源层上方,N型线电极与N型焊盘组成N型电极;发光器件还包括P型电极,包括:P型焊盘与P型线电极,该P型电极位于凸台上。本发明解决了有源层蚀刻过多的问题,增加了有源层从而改善光电特性,增加了发光面积,操作电压下降,亮度上升。 | ||
搜索关键词: | 一种 iii 半导体 发光 器件 | ||
【主权项】:
一种III族半导体发光器件,其特征在于,该发光器件包括:自下而上依次设置的衬底、缓冲层、n型氮化物半导体层、有源层和p型氮化物半导体层,并构成凸台,其中,所述凸台的上表面为p型氮化物半导体层的上表面;所述凸台表面上还设有N型线电极,所述N型线电极下方的有源层为被蚀刻掉或所述N型线电极下方的有源层为被部分蚀刻掉,所述N型线电极还连接有N型焊盘,该N型焊盘位于所述有源层上方,所述N型线电极与所述N型焊盘组成N型电极;所述发光器件还包括P型电极,包括:P型焊盘与P型线电极,该P型电极位于所述凸台上。
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