[发明专利]高精度掩膜板的制作方法

摘要

本发明提供一种高精度掩膜板的制作方法，先采用半蚀刻制程将掩膜基板的开孔区域减薄至激光可以穿透的厚度，然后施加张力于掩膜基板的四周，使其表面平整，并将掩膜基板焊接于掩膜边框上，之后用激光切割出掩膜板需求的图案的开孔，利用激光切割的激光束直径可达到1微米的特性对掩膜基板开孔，提高了掩膜板的开孔精度和开孔的位置精度，从而可以更精确地制作出合乎设计开孔尺寸的掩膜板；同时利用激光束直径可达到1微米的特性，可以在掩模板上制作出具有极小线宽值的开孔，从而提高显示器的分辨率；此外，由于生产所需的设备费用降低，从而显著降低了掩膜板的生产成本；由于制程工序缩短，从而大幅提高了掩膜板的生产效率。

主权项

一种高精度掩膜板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一掩膜基板，在所述掩膜基板上涂光阻，对涂有光阻的掩膜基板进行曝光、显影制程，从而在所述掩膜基板上形成开孔区域与非开孔区域；步骤2、对掩膜基板的开孔区域进行半蚀刻，然后去除光阻，并清洗掩膜基板；步骤3、对掩膜基板四周施加一定的张力，使其表面平整，然后提供一掩膜边框，将掩膜基板与掩膜边框对位好，并将掩膜基板与掩膜边框焊接在一起；步骤4、按照设计位置和尺寸，用激光切割掩膜基板上的开孔区域，切割出掩膜板需求的图案的开孔，完成掩膜板的制作；所述步骤3中采用张网机对掩膜基板四周施加一定的张力，使其表面平整；所述步骤2中采用化学蚀刻工艺对掩膜基板进行半蚀刻，经过半蚀刻后掩膜基板上位于开孔区域的厚度小于等于5μm。