[发明专利]一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统有效
| 申请号： | 201510040998.2 | 申请日： | 2015-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN105988294B | 公开（公告）日： | 2018-05-04 |
| 发明（设计）人： | 秦少伍;聂宏飞 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，包括液体供给装置，用于在投影物镜及基底台之间提供液体；基底，位于该基底台之上并浸没于该液体中；缓冲伸缩装置，该缓冲伸缩装置位于该液体供给装置和基底之间，用于实现该液体的密封，可在光轴方向上移动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸没 光刻 浸液 维持 碰撞 系统 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻机浸液流场维持防碰撞系统，其特征在于，包括：液体供给装置，用于在投影物镜及基底台之间提供液体；基底，位于所述基底台之上并浸没于所述液体中；缓冲伸缩装置，所述缓冲伸缩装置位于所述液体供给装置和基底之间，用于实现所述液体的密封，可在光轴方向上移动；所述缓冲伸缩装置与所述液体供给装置相连，所述缓冲伸缩装置与所述基底之间保持在预设间隙范围内。
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