[发明专利]一种塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，该方法采用磁控溅射技术，通过控制不同组成元素铜层和钌层交替更迭，并通过溅射过程转速、偏压等实验参数的调整铜层和钌层的单层厚度均与1.5nm，从而形成具有相同面心立方结构的铜层和钌层。该工艺通过在脆性钌相中加入第二相铜，诱导密排六方的钌层向面心立方的相转化。该方法制备的薄膜结构致密，可以很容易通过控制单层薄膜厚度来控制钌相的结构结构，从而为制备塑性优异的钌合金材料提供可能。同时，该方法操作简单，成本较低，易于在工业上实现和推广。

主权项

一种塑性金属纳米Cu/Ru多层膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将单面抛光单晶硅基片分别用酒精和丙酮超声清洗，吹干后，放入超高真空磁控溅射设备基片台上，准备镀膜；2)将需要溅射的金属靶材安置在靶材座上，通过调整中电源的功率控制靶的溅射率；采用高纯Ar作为离化气体，保证有效的辉光放电过程；3)硅片溅射沉积时，采用直流和射频电源，溅射过程中，沉积速率为铜层每分钟10纳米，钌层每分钟7纳米；先在硅基体上用射频电源镀一层铜层，以这层铜层作为钌层生长的模板，在上面用直流电源镀一层钌层，这样交替沉积铜层和钌层形成多层膜，最终达到所需的厚度和层数，铜钌多层膜的单层厚度为1.5nm。