[发明专利]分光计及流体分析系统有效

专利信息
申请号: 201510053734.0 申请日: 2015-02-02
公开(公告)号: CN104819775B 公开(公告)日: 2018-12-14
发明(设计)人: 马丁·嘉宝;克里斯托夫·肖勒 申请(专利权)人: 比尔克特韦尔克有限公司
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/18;G01J3/04;G01N21/31
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 刘明海;杨生平
地址: 德国英*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种分光计,特别用于构建在流体‑分析系统的传感器模块(18)中,包括辐射源以及下述的限定光程或沿着光程布置的组件:用于待检查的流体的样品空间(26),第一透镜(44),衍射件(48),第二透镜(50),以及探测器(52)。在样品空间(26)与衍射件(48)之间设置限制孔径(46),用于限制撞击到衍射件(48)上的射线束的有效直径。
搜索关键词: 分光计 流体 分析 系统
【主权项】:
1.一种分光计,用于构建在传感器模块(18)中,具有辐射源(28)以及下述的限定光程或沿着光程布置的组件:用于待检查的流体的样品空间(26),第一透镜(44),衍射件(48),第二透镜(50),以及探测器(52),其中,在样品空间(26)与衍射件(48)之间设置限制孔径(46),用于限制撞击到衍射件(48)上的射线束的有效直径,其中,限制孔径(46)被布置在第一透镜(44)与衍射件(48)之间,以及其中,限制孔径(46)被布置在傅里叶空间中,在该空间中辐射源(28)的光被准直。
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