[发明专利]一种Ag‑SiO2‑Ag纳米球阵列的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510053810.8 申请日: 2015-02-02
公开(公告)号: CN104692827B 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 张璋;刘利伟;高兴森 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: C01B33/00 分类号: C01B33/00
代理公司: 北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11624 代理人: 任漱晨
地址: 510631 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明实施例提供一种Ag‑SiO2‑Ag纳米球阵列的制备方法,所述方法包括在单晶硅样品硅片表面热蒸镀一层银薄膜;将单晶硅样品放入化学气相沉积反应腔中加热至预设温度,使银薄膜固态脱湿以形成银纳米颗粒;在所述预设温度下通入反应气体硅烷,使银纳米颗粒表面均匀沉积一层极薄的硅纳米薄膜,得到Ag‑Si核壳纳米球阵列结构;再将单晶硅样品取出放置在氧气气氛中加热,使Si纳米壳氧化成SiO2;在样品表面再热蒸镀预设厚度的银薄膜,以形成Ag‑SiO2‑Ag核‑壳纳米球阵列结构,以作为表面增强拉曼散射SERS的基底。本发明可以提供一种具有表面增强拉曼效应的Ag‑SiO2‑Ag纳米球阵列的制备方法的技术方案。
搜索关键词: 一种 ag sio2 纳米 阵列 制备 方法
【主权项】:
一种Ag‑SiO2‑Ag纳米球阵列的制备方法,其特征在于,所述方法包括:在单晶硅样品硅片表面热蒸镀一层银薄膜;将单晶硅样品放入化学气相沉积反应腔中加热至预设温度,使银薄膜固态脱湿以形成银纳米颗粒;在所述预设温度下通入反应气体硅烷,使银纳米颗粒表面均匀沉积一层极薄的硅纳米薄膜,得到Ag‑Si核壳纳米球阵列结构;再将单晶硅样品取出放置在氧气气氛中加热,使Si纳米壳氧化成SiO2,包括:将单晶硅样品取出放置在加热热台上,在洁净的空气中加热至100℃并保温5小时,使表面的硅纳米薄膜完全氧化成二氧化硅,得到Ag‑SiO2核‑壳纳米球结构;在样品表面再热蒸镀预设厚度的银薄膜,以形成Ag‑SiO2‑Ag核‑壳纳米球阵列结构,以作为表面增强拉曼散射SERS的基底,包括:采用热蒸发设备在单晶硅样品表面再热蒸镀预设厚度的银薄膜,以形成Ag‑SiO2‑Ag核‑壳纳米球阵列结构;该结构沉积的Ag膜厚度为10nm,热蒸发的速率为样品台转动速率为20r/min;将所述Ag‑SiO2‑Ag核‑壳纳米球阵列结构作为SERS检测的活性基底,以检测探针分子的拉曼信号,包括:将基底浸泡在含有罗丹明6G的水溶液中,该水溶液浓度10‑6~10‑13M,浸泡时间为1小时后取出,使待测分子吸附在基底的表面;将活性基底置于拉曼光谱仪激光下照射,激光波长选择633nm,功率选择为0.24mW。
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