[发明专利]基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法，提供利用处理液来均匀地对附着有前处理液的基板进行处理的技术。基板处理装置通过多个搬送辊从搬送方向(第三方向)的上游侧朝向下游侧搬送附着有显影液的基板；空气喷嘴向朝向下游侧搬送的基板的表面供给帘状的空气，从而去除堆积在基板上的显影液；冲洗覆液喷嘴配置在空气喷嘴的下游侧，从形成在下表面的喷出口向基板喷出冲洗液；从冲洗覆液喷嘴朝向基板喷出的冲洗液接触至基板及下表面，并且在基板及下表面的间隙内蔓延；液刀喷嘴配置在冲洗覆液喷嘴的下游侧，向基板喷出薄膜状的冲洗液。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于包括：搬送机构，从搬送方向的上游侧朝向下游侧来搬送附着有前处理液的基板；空气喷嘴，对由所述搬送机构朝向所述下游侧搬送的所述基板的表面供给帘状的空气，从而去除附着于所述基板的所述前处理液；第一喷出部，配置在所述空气喷嘴的所述下游侧，从狭缝的第一喷出口向在上游侧通过所述空气喷嘴去除所述前处理液的所述基板的下游侧的所述表面喷出处理液，所述狭缝的第一喷出口形成在所述第一喷出部的下表面，并沿与所述搬送方向正交的正交方向延伸；以及第二喷出部，配置在所述第一喷出部的下游侧，从沿所述正交方向延伸的狭缝的第二喷出口喷出处理液，以向所述基板供给薄膜状的所述处理液，在所述基板的上游侧通过所述空气喷嘴去除所述前处理液，并且通过所述第二喷出部向所述基板的下游侧供给处理液时，从所述第一喷出部朝向所述基板的所述表面喷出的所述处理液接触至所述基板及所述下表面，并且在所述基板的所述表面及所述第一喷出部的所述下表面的间隙内蔓延，而在所述基板的所述表面以及所述第一喷出部的所述下表面之间形成液密密封，所述第一喷出部配置成：所述第一喷出口距离所述基板的高度与堆积于所述基板上的所述处理液的上表面的高度相同或比其低的高度。