[发明专利]钾掺杂菲分子晶体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510055398.3 申请日: 2015-02-03
公开(公告)号: CN104651941B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 高云;王仁树;闫循旺;邬小林;黄忠兵 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: C07C15/30 分类号: C07C15/30
代理公司: 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙)42212 代理人: 丁齐旭
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种钾掺杂菲分子晶体及其制备方法。一方面,本发明在高真空、无水无氧条件下退火,通过控制退火温度和降温速率,可以将钾原子有效地掺入到菲分子晶体层内和层间,增加了菲分子晶体c轴长度,获得很好的[001]取向生长的高质量晶体材料;第二方面,通过控制退火温度和降温速率,可以有效抑制氢化钾等杂质的生成,获得高纯度的钾掺杂菲分子晶体,提高材料的超导分数;第三方面,通过将钾原子同时掺入到菲分子晶体层内和层间,可以将菲由半导体态转化为稳定的金属态,并提高超导临界温度。
搜索关键词: 掺杂 分子 晶体 及其 制备 方法
【主权项】:
一种钾掺杂菲分子晶体,所述菲分子晶体呈层状分布,钾原子分布在菲分子层内和层间,菲分子晶体c轴长度为1.28~1.30nm;所述钾掺杂菲分子晶体中菲分子与钾原子摩尔比为1:3;每一个菲分子层内掺入两个钾原子,每两个菲分子层间掺入一个钾原子;所述钾掺杂菲分子晶体的制备方法包括以下步骤:A.将粉末状的菲与钾单质混合;所述粉末状的菲与钾单质的比例为1:2.5~1:4;B.在真空度低于1x10‑4~5x10‑4Pa,水和氧含量为0.001ppm~0.1ppm的条件下退火获得钾掺杂菲分子晶体,退火条件为170℃,降温速率低于3℃/小时。
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