[发明专利]曝光方法以及器件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光方法以及器件制造方法。曝光装置是通过使光线经过规定图案再透过一种液体投影到感光基板上来使感光基板曝光的。曝光装置有一套用于投影的投影光学系统和用于供给液体到感光基板上从而在部分感光基板上形成液体浸入区域的液体供给机构。液体供给机构向感光基板供给液体。供给的液体同时向投影区四周扩散。曝光装置能通过回收液体很好地保持液体浸入区域，所以能阻止液体流向浸入区外面并且能很好地曝光。

主权项

一种曝光方法，藉由使用投影光学系统通过液体把规定图案的像投影到基板上来曝光所述基板，所述曝光方法包括：将所述液体供给到包含所述投影光学系统的投影区域的所述基板的一部分上，以形成液浸区域，所述液体具有针对配置在所述投影光学系统的端部处的液体接触表面的亲和性，并且所述亲和性是比针对所述基板的表面的亲和性还高；以及透过供给到所述液浸区域的所述液体将所述规定图案的所述像投影到所述基板。