[发明专利]一种脱铜分氰联立工艺处理银冶炼含氰贫液的方法有效
申请号: | 201510058977.3 | 申请日: | 2015-01-31 |
公开(公告)号: | CN104651880B | 公开(公告)日: | 2017-07-14 |
发明(设计)人: | 梁燕;王文华;李云飞;冯咏梅;王娇娇;吕智浩 | 申请(专利权)人: | 烟台大学 |
主分类号: | C25C1/12 | 分类号: | C25C1/12;C25C7/00;C22B11/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 264005 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种脱铜分氰联立工艺处理银冶炼含氰贫液的方法,含氰贫液进电解阴极室,含碱或盐的溶液进电解槽的阳极室,电解槽阴极和阳极之间加阳离子交换膜,阳离子通过膜进入阴极室,实现电路回路的联通,阴极室中电解析出铜和CN‑,电解阴极室储槽中CN‑含量较高时转移到电渗析淡水储槽,在电渗析淡水室中CN‑离子被转移并浓缩到电渗析浓水室,而等络离子不能被通过膜,电渗析淡水储槽中的CN‑离子浓度较低时,将其返回电解阴极室储槽,再电解析出金属铜和CN‑。当电渗析淡水储槽中的CN‑、离子浓度都较低时,将其转入电渗析浓水储槽作为电渗析浓水。电渗析浓水储槽中的CN‑浓度较高时将其送回银浸出工序。 | ||
搜索关键词: | 一种 脱铜分氰 联立 工艺 处理 冶炼 含氰贫液 方法 | ||
【主权项】:
一种脱铜分氰联立工艺处理银冶炼含氰贫液的方法,其特征是,将电解与电渗析联合操作,含氰贫液预先加入电解阴极室储槽,再进电解阴极室,含碱或盐的阳极溶液预先存于电解阳极室储槽,再进电解槽的阳极室,电解槽阴极和阳极之间加阳离子交换膜,阳离子通过膜进入阴极室,实现电路回路的联通,阴极室电解产生的阴离子不通过膜,电解后,阴极室中中铜离子得到电子后析出铜,CN‑被析出并富集,电解阴极室储槽中CN‑含量高时将其转移到电渗析淡水储槽,再进电渗析淡水室,在电渗析淡水室CN‑离子被转移并浓缩到电渗析浓水室,而络离子不能被通过膜,仍留在电渗析淡水室,电渗析淡水储槽中的CN‑离子浓度较低时,再将其返回电解阴极室储槽,再电解析出金属铜和CN‑,电渗析淡水储槽中的CN‑、离子浓度都较低时,将其转入电渗析浓水储槽作为电渗析浓水,当电渗析浓水储槽中的CN‑浓度较高时将其送回银浸出工序,用于银的提取,电渗析极水储槽以碱、硫酸钠、硫酸钾、硝酸钠或硝酸钾难电解的稳定性盐的水溶液做极水,在阳极室加入碱、硫酸钠、硫酸钾、硝酸钠或硝酸钾难电解的稳定性盐的水溶液做阳极液,阳极室中碱、盐的浓度为0.01‑15%。
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