[发明专利]一种钯铜合金薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510060213.8 申请日: 2015-02-05
公开(公告)号: CN104630728A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 马国峰;张鸿龄;贺春林;刘岩 申请(专利权)人: 沈阳大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16
代理公司: 沈阳技联专利代理有限公司 21205 代理人: 赵越
地址: 110044 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及一种防腐合金薄膜的制备方法,具体为一种钯铜合金薄膜的制备方法,包括以下步骤:选316L不锈钢作为基体,基体表面研磨并抛光,乙醚、酒精除油后,用超声波清洗,烘干后沉积薄膜;沉积薄膜前先将真空室抽真空,然后通入高纯氩气,通过计算机精确控制靶材上挡板打开的时间进行沉积钯薄膜和铜薄膜,沉积薄膜结束后样品随炉冷却至室温。所得薄膜样品放入电加热管式气氛炉中,通过热处理把316L不锈钢基体上的金属钯和金属铜合金化为均匀的钯铜合金薄膜,热处理结束后样品随炉冷却至室温。该方法系一种磁控共溅射方法沉积的高耐蚀性、高结合强度和耐高温氧化的钯铜合金薄膜的制备方法。该薄膜应用于不锈钢表面,属于表面改性领域。
搜索关键词: 一种 铜合金 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种钯铜合金薄膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:1)、选316L不锈钢作为基体,基体表面经砂纸研磨并抛光后,分别用乙醚、酒精和蒸馏水超声波器清洗,烘干后沉积薄膜;2)、沉积薄膜设备选用磁控共溅射镀膜系统,纯金属钯和纯金属铜同时对准上方中心处的基体,镀膜前先将真空室抽真空,然后通入高纯氩气;通过计算机精确控制靶材上挡板的打开时间进行沉积钯薄膜和铜薄膜,其沉积工艺条件为:钯靶功率50‑150瓦,铜靶功率40‑100瓦;基体负偏压0‑150伏,靶材与基体的距离5‑10厘米,工作气压0.2‑1帕,基体温度为室温‑500摄氏度,基体自转速度为5‑25转每分钟,镀膜结束后样品随炉冷却至室温;3)、钯铜薄膜合金化的设备选用电加热管式气氛炉,所获得的上述样品放入气氛炉中,在氩气气氛以1摄氏度每分钟速率程序升温到450‑600摄氏度,保持5‑10小时后随炉冷却到室温即可。
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