[发明专利]快速获得阻挡层形貌的样品制备方法有效
| 申请号： | 201510063210.X | 申请日： | 2015-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN104614216B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 刘君芳;仝金雨;李桂花;郭伟;李品欢 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N1/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种快速获得阻挡层形貌的样品制备方法，在对初级样品进行减薄处理之后，将初级样品浸泡在化学药物中，从而去除金属导线，暴露出阻挡层的表面，有利于后续对样品进行透射，容易获得阻挡层表面的形貌，而无需采用EDS或EELS进行扫描，节省了测试的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 快速 获得 阻挡 形貌 样品 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种快速获得阻挡层形貌的样品制备方法，其特征在于，包括步骤：提供初级样品，所述初级样品设有待透射的两侧边和非透射的两侧边，所述初级样品包括介质层、金属导线和阻挡层，所述阻挡层形成在所述介质层上，所述金属导线形成在所述阻挡层上，所述金属导线和所述介质层之间由所述阻挡层隔离，所述介质层包围所述金属导线和阻挡层；在所述初级样品表面形成支撑层，所述支撑层位于所述金属导线和阻挡层上方；对所述初级样品进行减薄处理，使所述待透射的两侧边暴露出部分所述金属导线的侧壁；对所述初级样品进行化学药物浸泡，去除所述金属导线，暴露出所述阻挡层。
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