[发明专利]一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法及其基底在审
| 申请号： | 201510069685.X | 申请日： | 2015-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN104634772A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 刘星;邰仁忠;吴衍青;杨树敏;赵俊;王连升;薛超凡 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海应用物理研究所 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 邓琪;宋丽荣 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法，包括：提供基片层；在基片层上通过蒸镀或溅射形成粘附层；在粘附层上通过蒸镀或溅射形成金属薄膜层；在金属薄膜层上通过蒸镀或溅射或化学气相沉积或薄膜湿法转移形成绝缘层；在绝缘层上通过X射线干涉光刻形成金属纳米结构阵列层，其包括：旋涂光刻胶；在120-180℃下蒸发光刻胶中的水分；X射线干涉曝光；用显影液显影；固化显影后的光刻胶；在有序纳米结构的表面沉积金属薄膜层；去除多余的金属和光刻胶。本发明还涉及一种表面增强拉曼光谱基底，包括基片层粘附层、金属薄膜层、绝缘层和金属纳米结构阵列层。根据本发明的表面增强拉曼光谱基底同时具备良好的灵敏度和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 表面 增强 光谱 基底 方法 及其 | ||
【主权项】：
一种制备表面增强拉曼光谱基底的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，提供基片层；S2，在所述基片层上通过蒸镀或溅射形成粘附层；S3，在所述粘附层上通过蒸镀或溅射形成金属薄膜层；S4，在所述金属薄膜层上通过蒸镀或溅射或化学气相沉积或薄膜湿法转移形成绝缘层；以及S5，在所述绝缘层上通过X射线干涉光刻形成金属纳米结构阵列；其中，所述步骤S5包括以下子步骤：S51，在所述绝缘层上旋涂光刻胶；S52，在120‑180℃下蒸发所述光刻胶中的水分以提高所述光刻胶的灵敏度；S53，X射线干涉曝光以在绝缘层上形成有序纳米结构的表面；S54，用显影液显影去掉所述光刻胶上被曝光的部分；S55，固化显影后的光刻胶，提高图形分辨率；S56，在有序纳米结构的表面沉积金属薄膜层；以及S57，去除多余的金属和光刻胶，从而形成金属纳米结构阵列层。
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