[发明专利]—种液晶面板铜钼膜蚀刻液有效
| 申请号： | 201510071332.3 | 申请日： | 2015-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN104611702A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 殷福华;邵勇;朱龙 | 申请（专利权）人： | 江阴江化微电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙) 32247 | 代理人： | 杨新勇 |
| 地址： | 214400 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种液晶面板铜钼膜蚀刻液，对于组合物的总重量，由以下组分组成：1～20%重量的过氧化氢；0.01～8%重量的双氧水稳定剂；由1～8%重量的氨水和1～7%重量的有机次膦酸盐混合而成的pH调节剂；0.1～12%重量的螯合剂；0.1～5%重量的金属缓蚀剂；余量为水。采用该铜钼膜蚀刻液解决了双氧水的对蚀刻液工作过程中pH值、热、金属离子等因素导致的稳定性分解问题，使其在恶劣环境下如温度增高，金属离子含量增高等情况下也能有良好的稳定性，从而有利于实现均匀蚀刻；在蚀刻时使钼金属反应速率降低，达到和铜同步蚀刻的速率，最终可呈现出满足客户工艺要求的CD LOSS和坡度角；且不含氟离子，环境友好。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶面板 铜钼膜 蚀刻 | ||
【主权项】：
一种液晶面板铜钼膜蚀刻液，其特征在于，对于组合物的总重量，由以下组分组成：（1）1～20%重量的过氧化氢；（2）0.01～8%重量的双氧水稳定剂；（3）由1～8%重量的氨水和1～7%重量的有机次膦酸盐混合而成的pH调节剂；（4）0.1～12%重量的螯合剂；（5）0.1～5%重量的金属缓蚀剂；（6）余量为水。
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