[发明专利]感光性元件有效
| 申请号： | 201510073128.5 | 申请日： | 2015-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN104834184B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 久保田雅夫 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;H05K3/06 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种感光性元件，其为具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感光性元件，支撑膜的雾度为0.01～1.0％，全光线透过率大于或等于90％，感光层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 元件 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂图案的形成方法，其包含如下工序：/n使用具有支撑膜和形成在该支撑膜上的感光层的感光性元件，在电路形成用基板上形成所述感光层的感光层形成工序，所述支撑膜的雾度为0.01～1.0％，且所述支撑膜的全光线透过率大于或等于90％，所述感光层含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物和光聚合引发剂；/n使用开口数小于0.1的投影式曝光机对所述感光层的规定部分照射活性光线，形成光固化部的曝光工序；以及/n将所述光固化部以外的未曝光部除去的显影工序。/n
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