[发明专利]一种低辐射薄膜有效

专利信息
申请号: 201510077005.9 申请日: 2015-02-12
公开(公告)号: CN104608434B 公开(公告)日: 2017-08-01
发明(设计)人: 王鲜;祁冬;龚韦;龚荣洲 申请(专利权)人: 华中科技大学;武汉伊美斯波谱技术有限公司
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B15/00
代理公司: 华中科技大学专利中心42201 代理人: 廖盈春
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种低辐射薄膜,包括基底、覆盖于基底之上的单银层和覆盖于单银层之上的周期性多层膜,薄膜厚度为1325nm~1575.8nm;其中,单银层由两层保护层和Ag膜构成,厚度为29nm~92nm;周期性多层膜由高折射率材料和低折射率材料交替叠加而成,厚度为1275nm~1490nm。本发明公开的低辐射薄膜采用金属薄银层来抑制长波长红外波和短波长紫外波的透射,采用周期性结构来增强可见光波段的透射;对可见光的透射率达到70~96%,对紫外波段的透射率降低到15%、对780nm~1200nm红外波段的透射率降低到10%以下、对1200nm~3000nm红外波段的透射率降低到25%以下,层数显著降低,很大程度上缩减了成本,简化了工艺流程。
搜索关键词: 一种 辐射 薄膜
【主权项】:
一种低辐射薄膜,其特征在于,所述薄膜包括基底、覆盖于基底之上的单银层和覆盖于单银层之上的周期性多层膜;所述单银层为3层结构,中间一层为Ag膜,Ag膜上下两表面分别紧贴一层TiO2保护层;所述TiO2保护层厚度在10nm~40nm;所述TiO2保护层用于提高Ag膜与其他膜层的附着力,并具有防止Ag膜被氧化腐蚀的作用和调节膜系光学性能的作用;所述周期性多层膜为10层结构,是5个TiO2/SiO2结型结构的叠加,所述TiO2/SiO2结型结构为一层TiO2膜上覆盖一层SiO2膜形成的结构;所述周期性多层膜的中心波长λ0为900nm~1050nm;所述周期性多层膜中TiO2膜的厚度为100nm~117nm;所述周期性多层膜中SiO2膜的厚度为155nm~181nm。
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