[发明专利]一种内孔表面纳米级金刚石涂层拉丝模具的制作方法在审
申请号: | 201510079994.5 | 申请日: | 2015-02-15 |
公开(公告)号: | CN104789937A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 张世勇 | 申请(专利权)人: | 河北一缆通电子商务有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27 |
代理公司: | 宜兴市天宇知识产权事务所(普通合伙) 32208 | 代理人: | 周舟 |
地址: | 055550 河北省邢台市宁晋*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种内孔表面纳米级金刚石涂层拉丝模具的制作方法,首先将衬底经化学处理后,然后将衬底直接置于CVD设备反应室中用CVD气相沉积方法,经过0.5h的形核与6~7h的生长过程,以气体流量300~400毫升/分的H2来刻蚀石墨或抑制石墨生长,以5~10%的气体流量的丙酮、甲醇混合物为碳源,两者比例为1:1,在模具内孔表面沉积一层金刚石薄膜,在生长过程结束前1~3h在反应气体中添加50~60%气体流量Ar掺杂。本发明沉积方法生长的金刚石薄膜内层为微米级薄膜,颗粒粗糙,结合力强,而外层经掺杂反应为纳米级颗粒,则颗粒细微,硬度高便于抛光加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 纳米 金刚石 涂层 拉丝 模具 制作方法 | ||
【主权项】:
一种内孔表面纳米级金刚石涂层拉丝模具的制作方法,首先将衬底经化学处理后,然后将衬底直接置于CVD设备反应室中用CVD气相沉积方法,经过0.5h的形核与6~7h的生长过程,以气体流量300~400毫升/分的H2来刻蚀石墨或抑制石墨生长,以5~10%的气体流量的丙酮、甲醇混合物为碳源,两者比例为1:1,在模具内孔表面沉积一层金刚石薄膜,其特征在于在生长过程结束前1~3h在反应气体中添加50~60%气体流量Ar掺杂。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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