[发明专利]一种简易倒装LED及其制作方法有效
申请号: | 201510082021.7 | 申请日: | 2015-02-15 |
公开(公告)号: | CN104659169A | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 于婷婷;徐惠文;张宇;李起鸣 | 申请(专利权)人: | 映瑞光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/20 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种简易倒装LED及其制作方法,包括步骤:首先提供一衬底,在所述衬底表面自下而上依次生长N型GaN层、多量子阱层及P型GaN层;然后刻蚀所述P型GaN层、多量子阱层及N型GaN层,形成暴露所述N型GaN层的第一通孔;接着在所述P型GaN表面形成反射金属;接着在所述第一通孔底部的N型GaN层表面形成N金属层,同时在所述反射金属表面形成阻挡层;再形成隔离层,刻蚀所述隔离层形成暴露所述N金属层的第二通孔、同时形成暴露所述阻挡层的第三通孔;最后淀积电极层,在隔离层表面及第二通孔中形成N电极,在隔离层表面及第三通孔中形成P电极。本发明制作的倒装LED芯片,从工艺上简化,从而减少了生产成本,为倒装芯片大规模量产提供了可能性。 | ||
搜索关键词: | 一种 简易 倒装 led 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种简易倒装LED的制作方法,其特征在于,所述制作方法至少包括:提供一衬底,在所述衬底表面自下而上依次生长N型GaN层、多量子阱层及P型GaN层;刻蚀所述P型GaN层、多量子阱层及N型GaN层,形成暴露所述N型GaN层的第一通孔;在所述P型GaN层表面形成反射金属;在所述第一通孔底部的N型GaN层表面形成N金属层,同时在所述反射金属表面形成阻挡层;形成隔离层,刻蚀所述隔离层形成暴露所述N金属层的第二通孔、同时形成暴露所述阻挡层的第三通孔;淀积电极层,在隔离层表面及第二通孔中形成N电极,在隔离层表面及第三通孔中形成P电极。
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